반도체인 Si는 부도체에 가까운 특성을 가집니다. 그래서 전기적 특성을 가지게 하기 위해 붕소(B), 인(P), 비소(As) 같은 불순물을 주입시켜서 n형, p형 반도체로 만드는데, 이렇게 불순물을 주입하는 과정을 도핑공정이라고 합니다. Doping에는 크게 확산공정(Diffusion)과 이온주입공정(Implantation)이 있습니다. - 확산공정(Diffusion) 확산공정은 크게 Pre-deposition, activation, drive-in, 후속 열처리과정 순으로 진행됩니다. 물질의 농도 차이로 인한 이동으로 농도의 차이와 온도, 그리고 물질 이동 시간에 의해 영향을 받습니다. 확산을 통한 도핑은 Si 결정에 손상 없이 도핑이 가능하다는 장점이 있지만 도핑 농도를 조절하기 어렵고 불순물이 침투..