안녕하세요, 베린이입니다.   퇴사하고 새로운 도전을 앞두고 있습니다. 휴식 기간 동안 1:1 verilog 과외를 해보려고 하는데요, 이론적인 부분보다는 실무적인 관점에서 지도를 하려고 합니다. (대학교 과제를 도와드리는게 아닙니다 ㅠㅠ) 1. 베릴로그 기본 문법 (아시면 넘어가겠습니다)2. AMBA APB bus 설명3. APB interface 설계4. APB interface를 활용한 간단한 IP 설계5. testbench에서 IP 운용  6월부터 시작하려고 하는데, 관심 있으신 분은 편하게 연락 주세요.   메일: strong2066@gmail.com오픈 카카오톡: https://open.kakao.com/o/suwUiasg  비용: 하루에 4만원  장소: 서울 구로구 사는데 협의 가능합니다.

제가 석사기간 중 진행했던 연구 중 하나는 EC-transistor(Electro Chemical transistor)였습니다. 정식 명칭이 따로 있는지는 모르겠지만, 저희 연구실에서는 이 이름으로 불렀어요;; RRAM과 마찬가지로 emerging device 중 하나이며, probe가 3개여서 3-terminal device라고도 불렸습니다. 그러면 EC-transistor에 대해 알아보겠습니다. - 구조 먼저 구조를 살펴볼까요?? RRAM과는 많이 다르죠?? EC-transistor는 일반적인 transistor와 마찬가지로 Gate, Source 그리고 Drain이 있습니다. 그러면 나머지 layer들에 대해 설명드리겠습니다. 1. Cathodic oxide Cathodic oxide는 source..

- Retention test RRAM은 비휘발성(Non-volatile) 메모리로 Long-term-memory(LTM)으로 사용됩니다(같은 말이긴 하네요). 그러면 소자를 set 시킨 뒤 LRS(low-resist-state) 상태를 유지해야 합니다. 그래서 set 시킨 뒤 소자의 저항을 모니터링하는 test를 하는데, 이를 retention test라고 합니다. Test result는 x축이 시간, y축이 저항(or conductance or current)을 plot 합니다. 물론 같은 read voltage에서 측정해야 하고, 소자에 영향을 주지 않을 만큼 낮은 전압이어야 합니다.(저는 0.1V에서 측정했습니다) 위 그래프를 보시면 STM(short term memory)와 LTM의 retent..

지난 글에 이어 RRAM 측정 방법 중 PD(potentiation/depression) test에 대해 알아보겠습니다. 2023.08.29 - [etc.] - RRAM에 대하여 - 2 특성 (1) DC sweep RRAM에 대하여 - 2 특성 (1) DC sweep RRAM을 측정하는 방법은 기본적으로 DC sweep과 PD test가 있습니다. - 측정 방법 이전 글에서 RRAM은 MIM의 간단한 구조로 되어있다고 설명드렸습니다. 물론 RRAM 소자를 회로로 구현하기 위해서는 crossba veriln-e.tistory.com - PD test PD test는 pulse로 소자를 작동시키기 때문에 Pulse test라고도 불렀습니다. 이름 그대로 DC sweep이 아니라 소자에 pulse를 가해 측정..

리눅스에서 grep은 검색할 문자열을 지정하여 그 문자열이 포함된 파일을 찾아 그 문자열을 포함한 행을 찾아주는 명령어이다. 다른 명령어와의 조합으로 여러가지 응용이 가능하다. 기본 사용법grep [옵션] [문자열] [파일명]ex) grep 'abc' [파일명] : 특정 파일에서 abc 문자열 찾기 - 옵션 설명-c : 일치하는 행의 수 출력-i : 대소문자 구별 x-v : 일치하지 않는 행만 출력-n : 포함된 행의 번호 함께 출력-l : 패턴이 포함된 파일 이름 출력-w : 단어와 일치하는 행만 출력-x : 라인과 일치하는 행만 출력-r : 하위 디렉토리를 포함한 모든 파일에서 검색-m 숫자 : 최대로 표시될 수 있는 결과 제한-E : 찾을 패턴 정규 표현식으로 찾음-F : 찾을 패턴 문자열로 찾음 ..

반도체 설계 시 시놉시스나 케이던스가 제공하는 대부분의 합성 툴은 리눅스 환경에서 사용할 수 있기 때문에 윈도우 환경에서 개발하는 것이 아니라 리눅스 환경을 사용한다. - Workspace 이동 방법CentOs에는 여러개의 workspace가 있는데 한 workspace에서 여러개의 창을 띄워놓고 창을 이동할 때는 윈도우와 마찬가지로 alt + tab을 사용하면 된다. workspace간의 이동은 ctrl + alt + 위/아래 화살표를 사용하면 워크 스페이스를 이동할 수 있다. - 창 이동 방법한 workspace에서 작업을 하다보면 여러 창을 띄워놓고 일해야하는 경우가 많다. 이때, 창 정리하는데 마우스를 사용하면 불편한 점이 많다. 윈도우 + 화살표 키를 통해 창을 쉽게 정리할 수 있다. windo..

RRAM을 측정하는 방법은 기본적으로 DC sweep과 PD test가 있습니다. - 측정 방법 이전 글에서 RRAM은 MIM의 간단한 구조로 되어있다고 설명드렸습니다. 물론 RRAM 소자를 회로로 구현하기 위해서는 crossbar array라는 구조로 만들어야 하지만, 단일 소자의 특성을 파악하기 위해서 위와 같은 간단한 구조로 소자를 만들어도 됩니다. 적정한 크기로 자른 (1cm x 1cm) Bare wafer위에 BE(Bottom Electrode)와 oxide를 깔고, 그 위에 TE(Top Electrode)를 패터닝하여 증착하면 끝입니다. 측정을 하기 위해서는 Probe contact을 해야겠죠?? TE은 바로 contact 하면 되고 BE는 전체적으로 증착되어 있는 Oxide를 Diamond ..

반도체인 Si는 부도체에 가까운 특성을 가집니다. 그래서 전기적 특성을 가지게 하기 위해 붕소(B), 인(P), 비소(As) 같은 불순물을 주입시켜서 n형, p형 반도체로 만드는데, 이렇게 불순물을 주입하는 과정을 도핑공정이라고 합니다. Doping에는 크게 확산공정(Diffusion)과 이온주입공정(Implantation)이 있습니다. - 확산공정(Diffusion) 확산공정은 크게 Pre-deposition, activation, drive-in, 후속 열처리과정 순으로 진행됩니다. 물질의 농도 차이로 인한 이동으로 농도의 차이와 온도, 그리고 물질 이동 시간에 의해 영향을 받습니다. 확산을 통한 도핑은 Si 결정에 손상 없이 도핑이 가능하다는 장점이 있지만 도핑 농도를 조절하기 어렵고 불순물이 침투..

Aligner에 대한 글은 이번으로 마무리하려고 하는데요, 장비 관리자로 일하면서 겪었던 이슈들에 대해 설명해 보겠습니다. - 램프 관리 1. intensity 변경 지난 글에서 저희 연구실에서는 350W 램프를 사용했고 CH mode를 사용할 시 사용자가 설정한 intensity를 맞추기 위해 적정 값보다 높은 power가 인가될 수 있다고 설명했습니다. 2023.08.21 - [etc./반도체 공정] - Aligner 이해 (2) 작동 모드 Aligner 이해 (2) 작동 모드 지난 글에서 Aligner의 구조와 작동방식에 대해 설명했습니다. 이 글을 읽으시기 전에 참고하시면 좋을 것 같네요. 2023.08.17 - [etc./반도체 공정] - Aligner 이해 (1) 구조와 작동방식 Aligner..

지난 글에서 Aligner의 구조와 작동방식에 대해 설명했습니다. 이 글을 읽으시기 전에 참고하시면 좋을 것 같네요. 2023.08.17 - [etc./반도체 공정] - Aligner 이해 (1) 구조와 작동방식 Aligner 이해 (1) 구조와 작동방식 제가 석사기간 동안 노광장비인 Aligner 담당자를 맡으면서 이 장비에 대해 여러 가지 알아보았는데요, 한번 정리해보고자 합니다. 저희 연구실은 SUSS MicroTec의 MA/BA6를 사용했습니다. - Aligner 구조 veriln-e.tistory.com 이번 글에서는 Aligner의 작동 모드에 대해 설명해 보겠습니다. 제가 사용했던 SUSS MicroTec의 MA/BA6는 Expose와 Contact에 여러 모드가 있었습니다. - Expose..