지난 글에서 노광 방식과 노광에 사용하는 자외선 파장에 대해 설명했는데요, 패턴의 정밀도가 높아질수록 짧은 파장의 빛을 사용한다고 했습니다. 그 이유에 대해 알아보겠습니다. - Resolution 포토공정에서 가장 중요한 것은 분해능(resolution)이라고 할 수 있습니다. Resoltion은 패터닝 시 구분할 수 있는 최소 패턴 크기라고 할 수 있는데요, 이는 다음과 같은 수식으로 표현할 수 있습니다. 공정계수는 PR의 특성 개선, 공정 최적화, 마스크 패턴 개선(OPC 등)을 통해 향상시킬 수 있습니다. 수식에서 알 수 있듯이 자외선 파장이 짧아질수록 Res값이 작아지고, 이는 더 작은 패턴도 구분할 수 있다는 것을 의미합니다.(정밀도 향상) - DOF 위의 그림에서 알 수 있듯이 광학계(렌즈)를..

- 노광 방법 자외선을 사용하는 기본적인 노광 공정 장비에는 크게 세 가지 노광 방법이 있습니다. Contact aligner Proximity aligner Projection aligner 초창기에 사용했던 노광 방법인 Contact aligner와 Proximity aligner는 마스크와 wafer 사이의 간격에 의해 구분됩니다. Contact aligner 방식의 경우, 마스크와 wafer가 가까이 붙어있어 빛의 회절에 영향을 잘 받지 않는다는 장점이 있지만 마스크가 PR에 오염됩니다. 그래서 마스크의 수명이 단축된다는 단점이 있습니다. 이러한 방법은 연구실에서만 사용을 하는데요, 저희 연구실에서도 Contact aligner 방식으로 노광을 했습니다. 그래서 매번 마스크를 아세톤이나 에탄올로 ..